課程名稱 |
光學量測系統原理設計 Design Principle of Optical Measurement System |
開課學期 |
109-1 |
授課對象 |
工學院 應用力學研究所 |
授課教師 |
李世光 |
課號 |
AM7177 |
課程識別碼 |
543 M5400 |
班次 |
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學分 |
3.0 |
全/半年 |
半年 |
必/選修 |
選修 |
上課時間 |
星期三7,8,9(14:20~17:20) |
上課地點 |
應111 |
備註 |
總人數上限:30人 |
Ceiba 課程網頁 |
http://ceiba.ntu.edu.tw/1091AM7177_ |
課程簡介影片 |
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核心能力關聯 |
核心能力與課程規劃關聯圖 |
課程大綱
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課程概述 |
目前一般傳統課程皆注重於各種學理上探討,缺乏對於系統上整合之概念,而這門課程循序從原理端出發並與實際光電量測架構作交互性的探討,如:顯微鏡、各種干涉數及光學尺。希望學生能藉由了解現有光學量測系統設計概念,理解在建構系統過程中所需注意的參數及物理意義,進而建立起學生獨立思考、設計儀器之能力。本課程設計適合過去有一些部分基礎光學背景學生修習。 |
課程目標 |
以系統整合的角度重新思考各種光學量測系統的學理參數,並從既有的光學量測系統來探討設計的思路和架構,訓練學生擁有可將過去所學的物理或光電基礎理論化為實際系統的應用能力,進而成為具有系統邏輯思考性的系統設計與開發者。 |
課程要求 |
建議選光機電系統設計與製造一(課號543 U5210),或未來能再修這堂課程。 |
預期每週課後學習時數 |
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Office Hours |
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指定閱讀 |
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參考書目 |
1. Fundamentals of Optics by F. A. Jenkins & H. E. White, published by McGraw Hill (4th edition)
2. Optics by Eugene Hecht, published by (2002 edition) Addison Wesley
3. Advanced Light Microscopy Vol. 1, 2 by M. Pluta
4. Additional selected materials |
評量方式 (僅供參考) |
No. |
項目 |
百分比 |
說明 |
1. |
出席 |
20% |
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2. |
課程報告 |
30% |
2次報告 |
3. |
期末考 |
50% |
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週次 |
日期 |
單元主題 |
第1週 |
9/16 |
課程簡介、視光學與視科技 |
第2週 |
9/23 |
幾何光學及像差 |
第3週 |
9/30 |
成像系統與解析力 |
第4週 |
10/07 |
波動、光譜與偏極 |
第5週 |
10/14 |
共軛焦顯微鏡、光學斷層掃描(OCT)、橢偏儀 (小組報告) |
第6週 |
10/21 |
同調、干涉、波前分析與相位 (小組報告) |
第7週 |
10/28 |
全像術、多波長干涉與白光干涉 |
第8週 |
11/04 |
電漿子與奈米光學 |
第9週 |
11/11 |
期中考 |
第10週 |
11/18 |
空間相位與相位重建 |
第11週 |
11/25 |
三角量測、疊紋與光學尺(幾何式光學尺、繞射式光學尺) |
第12週 |
12/02 |
時間相位與都卜勒效應 |
第13週 |
12/09 |
系統探討:Advanced Vibrometer/Interferometer Device(AVID) and Laser Doppler Anemometer (LDA) |
第14週 |
12/16 |
訊號處理與分析(Homodyne and Heterodyne Interferometry) (小組報告) |
第15週 |
12/23 |
光學趨勢探討(光學系統與人工智慧) (小組報告) |
第16週 |
12/30 |
光學趨勢探討 |
第18週 |
01/13 |
期末考 |